삼성전자와 SK하이닉스가 네덜란드 반도체 장비기업 ASML과 협력해 차세대 반도체 기술개발에 나선다. 미국과 중국. 일본 등이 최첨단 반도체 공정 확보경쟁에 나선 상황에서 국내 반도체 산업 경쟁력을 높이는데 큰 힘이 될 전망이다.

삼성전자와 ASML은 12일(현지시간) 네덜란드 ASML 본사에서 열린 한국-네덜란드반도체 협력 협약식에서 극자외선(EUV) 공동 연구소 설립에 관한 업무협약(MOU)을 체결했다.

삼성전자와 ASML이 7억유로(약 1조원)를 투자해 연구소를 세워 차세대 노광장비 개발을 추진할 계획이다.

ASML은 7나노미터(㎚, 1㎚는10억분의 1m) 이하 반도체 미세공정에 쓰이는 극자외선(EUV) 노광장비를 세계에서 유일하게 생산하는 회사다. 이 때문에 세계 주요 반도체 업체들은 ASML과의 협력에 공을 들이고 있다.

ASML 역시 글로벌 메모리 반도체 1위 국가인 한국에 투자하는 것이 차세대 노광기술 확보에 유리하다는 전략적 판단에 따라 삼성전자와 공동 연구소 설립에 합의했을 것으로 업계에서는 보고 있다.

삼성전자도 이번 협약에 따라 최첨단 메모리 개발에 필요한 차세대 EUV 양산 기술을 조기 확보하고 최신 장비를 적극 도입해 메모리 미세공정 혁신을 이끌 계획이다.

앞서 삼성전자는 차세대 반도체 구현을 EUV 기술 확보가 좌우한다고 보고 2000년대부터 ASML과 반도체 초미세공정 기술·장비 개발 협력을 이어왔다. 2012년에는ASML 지분에 투자하기도 했다. 이를 통해 2020년 업계 최초로 D램 생산에 EUV를 적용하는 등 성과를 창출해 왔다.

SK하이닉스도 EUV 공정에서 전력 사용량과 탄소 배출을 줄이는 기술을 ASML과 공동 개발하는 협약을 체결하며 파트너십을 강화했다.

SK하이닉스는 현재 10나노 4세대(1a)와 5세대(1b) D램 제조공정에 ASML의 EUV 장비를 적용 중이며, 향후 확대 적용을 위해 2021년 4조7500억원 규모의 EUV 장기공급계약을 체결했다.

SK하이닉스는 이번 협약에서 EUV를 운용할 때 내부 오염원 제거 등에 쓰이는 수소 가스를 포집한 뒤 연료전지로 재활용해 전력화하는 기술을 ASML과 공동 개발하기로 했다.

지금은 사용한 수소 가스를 소각 처리하고 있는데, 이를 재활용하면 전력 사용량뿐 아니라 탄소 배출량도 줄일 수 있어 ESG(환경·사회·지배구조) 관점에서 긍정적 효과가 있을 것으로 업계는 보고 있다.

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